„Huawei“ pradeda pramonės smūgines bangas, lazerių gamybą, kad padėtų kurti lustą

Rugpjūčio 29 d., praėjus mažiau nei valandai po išpardavimo, Huawei metė sunkią bombą – Huawei MATE 60 pro. Priežastis, kodėl šis naujas parduodamas modelis sukėlė šoko bangas pramonėje, daugiausia dėl to, kad kai Kinijos aukšto proceso lustas prie Vakarų kaklo tiesiogiai leido „Huawei“ veikimui „šokti“, o šis veiksmas gali reikšti, kad „Huawei“ išsprendė problemą. Kalbant apie didelio proceso lustus, kaip turėjo pasirodyti EUV litografijos veikėjas. Nyderlandų Asmay EUV litografija šiuo metu yra pati pažangiausia, kuri gali gaminti 5 nm aukščiausios klasės lustus, o Kinijos visiškai nepriklausoma litografija tik 90 nm procesu, skirtumas gali būti daugiau nei pusė žvaigždės. Viena iš pagrindinių EUV litografijos įrenginių yra lazeris, o Vokietijos „Trafigura“ yra vienintelė šio pagrindinio komponento tiekėja „Asmac“. Kodėl lazeris toks svarbus? Kadangi EUV litografijoje kaip šviesos šaltinis naudojama ekstremali ultravioletinė šviesa, kurios bangos ilgis yra 10-14nm. Čia turime suprasti, kokį vaidmenį lazeris atlieka visame EUV litografijos aparate.
Pradiniame EUV litografijos vaidmens etape pirmasis generatorius alavo lašus paleis į vakuuminę kamerą, šiuo metu iš greito impulsinio didelės galios lazerio išduos daugiau nei 30 kW vidutinę lazerio spindulio impulso galią, smailę. impulsų galia gali siekti net kelis megavatus, kad pataikytų iš alavo lašo pusės net 50 000 kartų per sekundę. Alavo atomai jonizuojami, sukuriant didelio intensyvumo plazmą, kuri visomis kryptimis skleidžia 13,5 nm bangos ilgio EUV spinduliuotę. Tai yra pati EUV litografijos esmė, jos „šaltinis“. Procesas, kurio metu pradinis šviesos šaltinis trenkia į alavo skystį, iš tikrųjų yra padalintas į du etapus, kurie apima du pagrindinius impulsus, kuriuos vadiname išankstiniu ir pagrindiniu impulsu. Vadinamasis išankstinis impulsas, kaip rodo pavadinimas, yra pirmasis, kuris veikia skystą skardą, daugiausia tam, kad suformuotų norimą formą kitam žingsniui. Ir tada pagrindinis impulsas veikia tiesiogiai jį, kuris paverčia jį plazma. Tai labai reikalauja lazerio skleidžiamo spindulio, kuris turi turėti tinkamas optines charakteristikas, kad būtų galima tinkamai apdoroti alavo skystį, kad susidarytų plazma, taigi ir EUV spinduliuotė. Taigi ar didesnės galios lazeriuose bus daugiau patobulinimų, skirtų generuoti EUV spinduliuotę, ar didesnės galios lazeriuose gali būti atsisakyta kitų technologijų ir bendri techniniai būsimos litografijos reikalavimai bus glaustesni? Tiesą sakant, ankstyvieji Kinijos mokslininkai buvo susiję su tyrimu.
2021 m. Tsinghua universiteto inžinerinės fizikos profesoriaus Tango Chuanxiango tyrimų grupė ir Vokietijos tyrimų grupė baigė kurti naują dalelių dujų pedalo šviesos šaltinį, vadinamą „stacionariu mikrospinduliu“ (SSMB), kad patikrintų eksperimento principą. Pranešama, kad pagrindinis 1064 nanometrų bangos ilgio lazerio panaudojimas elektronų pluoštui manipuliuoti Berlyno MLS saugojimo žiede taip, kad jis aplink žiedą apsuktų visą apskritimą (48 metrų perimetras), kad susidarytų smulkus mikropolimeras. sija. Mikroklasterių pluoštai spinduliuoja didelio intensyvumo siauro dažnio pločio koherentinę šviesą lazerio bangos ilgiu ir jos aukštesnėmis harmonikomis, o eksperimentai patvirtino mikroklasterių pluoštų susidarymą zonduodami spinduliuotę, taip parodydami, kad elektronų optines fazes galima koreliuoti apskritimu. aplinkinis apskritimas, kurio tikslumas yra trumpesnis nei lazerio bangos ilgis, leidžiantis elektronams stabiliai įstrigti lazerio suformuotuose optinio potencialo šuliniuose ir taip patikrinti SSMB veikimo mechanizmą. Tai taip pat reiškia, kad tikimasi, kad būsimi SSMB pagrindu sukurti EUV šviesos šaltiniai pasieks didesnę vidutinę galią ir galbūt trumpesnius bangos ilgius, o tai turės didelę įtaką EUV litografijos atnaujinimui ir taikymo plėtrai ateityje.
Reikia tyrinėti ir kaupti EUV litografijos plėtrą, todėl turėtų būti tik laiko klausimas, kada naujos technologijos galės sustiprinti EUV litografijos lustinį procesą, sumažinti jo energijos sąnaudas ir peržengti ribas. Galbūt ateitis yra ne EUV litografijos kartojimas, o naujų technologijų, kurios ją pakeis, gimimas. Lazerių galia yra begalinė, ir aš tikiu, kad yra dar daug galimybių, kurias reikia atrasti.